半導体産業や一般工業向けに多種にわたるドライポンプをご提供しております。

超高真空や大量排気を実現するターボ分子ポンプをご提供しております。

排気速度15L/minから5000 L/minまでの幅広いレンジを揃えています。

ロータリポンプの代わりとなる進んだポンプ技術でよりクリーンな真空環境を実現します。

大気駆動型EHメカニカルブースタポンプはバイパス・ライン不要の素早い立ち上がり時間を実現します。

科学分野向け小型拡散ポンプは、計測機器や一般的な研究開発用に設計されています。 工業用HTシリーズは真空冶金、蒸留、コーティングなどのアプリケーションに最適です。